Die internationale Fachjury vergab den von der Firma MeasLine gestifteten Preis für die Vorstellung des Posters „Organic thin film shape anisotropy induced by ion-beam irradiated rippled substrates“ der Autoren M. Kratzer, D. Wrana, S. Szajna, F. Krok und C. Teichert.
Diese Arbeit entstand in einer Zusammenarbeit zwischen der Montanuniversität Leoben und der Jagiellonen Universität Krakau und beschäftigt sich mit der gezielten Veränderung von organischen Halbleiter-Dünnschichten durch Substratmodifikationen.
Dabei wurden mittels Ionenbeschuss nanostrukturierte Template für das organische Schichtwachstum erzeugt. Die gezielte Einflussnahme auf die Dünnschicht-Morphologien ist ein wichtiges Element zur Optimierung zukünftiger Bauteile der organischen Elektronik.
